JinHyuk Jeong, Ho Lee, DongHae Kang, and SoYoung Kim
페이지 정보
작성자: 관리자 댓글: 0 조회수: 142 날짜: 2023-04-04본문
저자 : JinHyuk Jeong, Ho Lee, DongHae Kang, and SoYoung Kim
논문명 : Gate Engineering to Improve Effective Resistance of 28-nm High-k Metal Gate CMOS Devices
게재지 : IEEE Transactions on Electron Devices
게재정보 : pp.259-264, vol.63, no.1
게재일자 : 201601
분류 : SCI
연구실 : ICDS
논문명 : Gate Engineering to Improve Effective Resistance of 28-nm High-k Metal Gate CMOS Devices
게재지 : IEEE Transactions on Electron Devices
게재정보 : pp.259-264, vol.63, no.1
게재일자 : 201601
분류 : SCI
연구실 : ICDS